机译:电子能量损失谱与生长机理的原位研究\ ud 金属表面上的酞菁铜分子数量:Al(100)
机译:氢终止Si(100)表面上的铜酞菁生长:X射线光电子研究揭示了相反的分子排列
机译:电子能量损失谱研究钾掺杂铜酞菁的电子性质
机译:电子能量损失谱研究钾掺杂铜酞菁的电子性质
机译:使用原位表面潜在测绘钒酞菁分子与高温热解石墨的界面相互作用研究
机译:支撑的小金属颗粒和表面的电子能谱分析。
机译:共价键合到硅表面的游离碱酞菁的原位金属化
机译:电子能量损失谱与原位研究金属表面铜酞菁分子生长机理的相关性:Al(100)